2024-09-15
中國 ~ 氟化氬光刻機：解析度 ≤ 65 nm
~ 實現國產 DUV 曝光機可生產 8 奈米及以下晶片

28 奈米及以上的晶片製程為成熟製程，小於 28 奈米的為先進位程

中國在晶片設計與封測方面能達到 3 奈米水準
台積公司量產 3 奈米電晶體
2 奈米以下先進製程中科擴廠

1 奈米 = 十億分之 1 米 是頭髮寬度的十萬分之一 即介於分子和次微米之間

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中國 國產機 公文以外的技術描述
[ 乾式 ] 與 [ 浸潤式 ] ... [ 浸潤式 ] 是重點 ?