2025-01-18
中國 ~ 哈工大攻克 13.5 奈米 EUV 光源技術
在該領域跨出關鍵一步
值得注意的是，哈工大採用粒子加速產生紫光
與 ASML 採用的美國光源技術和德國徠卡的透鏡技術不同
展現更具突破性的創新。